当北方的清晨亮起第一抹阳光，长春光机所地下实验室里，一场激动人心的实验，也终于开始了。

    激光发生器开始预热，这是全套光刻机台中最核心的部件之一，由中科光电院设计制造。

    激光光源射出后，首先会进入光束矫正器，矫正器共有三组，调整光束入射方向，让激光束尽量保持平行。

    调整完毕的平行激光，会进入能量控制器。

    顾名思义，能量控制器是调节激光功率的存在，控制最终照射到硅片上的能量大小。

    像芯片这样的高精密制造业，无论曝光不足或者过足，都会严重影响出片质量，所以能量必须收到严格的控制。

    能量控制器之后，是光束形状设置器，它可以设置光束形态，呈圆型，环型，散射型等等不同的形状，而不同形态的激光，又有着不同的光学特性。

    光束形状设置器尾部，还有一组遮光器，在不需要曝光的时候，遮光器会把光束拦下来，防止光束照射到硅片上。

    再然后是能量探测器，这个东西主要是检测光束功率的，它无法单独使用，而是将检测信号回馈给能量控制器，配合能量控制器进行功率调整。

    调整完毕的激光束，会穿过掩模版，进入物镜。

    掩膜版也叫光罩，简单来说呢，它就是一块内部刻着线路设计图的玻璃板，给硅片曝光用的，你想要什么样的半导体设计线路，就定制什么样的掩膜版。

    掩膜版的价格和精度成正比，国内海凸版，无锡华润，中微，深圳清逸，路维，十三所，五十五所，自动化所等等，都可以做这个东西。

    目前，华夏已经把基础型掩膜版价格，砸成了白菜价，帝都微电子所的2um光刻板，只要一千两百块，南京55所的一千一百块，精度1um的板子五千块，无锡华润略贵，两千块起步，但板子做的确实漂亮。

    而要是精度达到纳米级别的板子，那可就相当昂贵了，根据业内小道消息，苹果公司给旗下m1型处理器定制的掩膜版，造价高达上百万美元。

    掩膜版下方，是一种名为掩膜台的机械装置，它的作用是承载掩模版进行运动，控制精度为纳米级，为了达到苛刻的精确控制要求，长春光机所从昆仑集团采购了高精度极光电机。

    在这套机台上，其实有很多技术和产品，都是来自昆仑集团，但最重要的部分，必须是掩膜台下方，巨大而又极端精密的物镜。

    物镜由三十多块镜片组成，主要作用是把掩膜版上的电路图，按照比例缩小，再用激光映射的硅晶圆上，并且物镜还要主动补偿各种光学误差，控制曝光精度。

    可以毫不夸张的说，物镜就是光刻机的心脏，如果物镜技术过关，哪怕掩膜技术差一点，光源功率弱一些，最终也能得到不错的结果。

    但如果物镜技术不行，其他所有子系统就算造的再好，也没有任何作用。

    毕竟光刻机的本质，是一套光学系统。

    很多不了解半导体行业的同学，往往对其有所误解，真正的芯片制造流程，是激光透过物镜在硅片上曝光出来的，而不是用机器物理雕刻出来的。

    高原目光扫过硕大的物镜时候，嘴角轻轻扬起一抹弧度，信心满满。

    这套物镜来自系统那大猪蹄子的馈赠，绝不是把三十多片打磨好的玻璃拼接起来那么简单，除了精度，它还有着强大的功率补偿机制，容错机制。

    也就是说，激光通过物镜后，功率可以得到一定程度提升，精度方面，则可以做到无限接近完美的程度。

    总之就是很牛逼很强大的意思，开了外挂的物镜，效果杠杠的。

    物镜下面，就是测量台和曝光台了，老式光刻机需要先测量，再曝光，而这种双工作台系统，则可以实现一片硅片曝光同时，对另一片硅片进行测量和校准，工作效率提高一倍以上。

    目前世界上，只有荷兰asml掌握双工作台技术，长春这个机台如果量产的话，将是世界第二名。

    整套机台最底部，是内部封闭框架和减振器，它们负责将工作台与外部环境隔离，保持水平，减少外界振动干扰，并维持恒定的温度和压力。

    这一点极其重要，毕竟是制造高精密芯片，哪怕最微小的震动，一粒尘埃，或者空气温度和湿度的差别，都有可能导致硅片曝光失败，或者前后两批芯片的性能不一致。

    一台完整的光刻机，大体就是这样了。

    听上去简单，其实却是人类历史上最复杂最精密的机台，没有之一。

    放眼全球，能做到紫外的，只有asml，佳能，尼康三家，而能做到极紫外的，则只有荷兰asml，其余所有竞争对手，全部惨遭淘汰，消失在历史的长河中。

    “开始！”

    长春光机所的所长叫杜维明，随着他一声令下，全封闭绝尘实验室里，光刻机开始运行，大概也就十几秒钟过后，一片十二寸硅晶圆就被送下了机台。

    其实，光刻机工作速度是很快的，每小时出片两百张以上，完全不存在任何问题。

    制约产能的主要是沉积设备，pvd和cvd这类，其次是刻蚀设备包括icp，ccp，die这几种机台，另外热处理设备工作效率也十分感人。

    一条月产能一万片十二寸晶圆的fab制造线，光刻机或许只有四五台，但刻蚀机，却起码要有六十台起步，如果想要追求高效率，甚至要堆一百台以上的刻蚀机。

    目前，中微半导体的介质刻蚀技术，硅通孔刻蚀技术，位列全球前三，全球最牛的半导体代工厂台积电，生产线上就有成百上千台来自中微的刻蚀机，算是国产半导体行业里比较争气的存在。

    “成了！”

    “一次出片成功，比我预想的还要顺利！”

    “不愧是昆仑集团啊，临时加进来的光学系统，竟然和旧机台配合的这么好！”

    实验室里，穿着全套无尘服的工程师，取下十二寸硅晶圆，仔细看，会发现上面出现了密密麻麻，无比繁杂的线条，灯光下亮晶晶的，甚是喜人。